CR-25 硬铬电镀工艺
特性与用途:
1. 阴极电流效率髙达25%。
2. 可使用电力密度高达65安培/平方分米以上。
3. 沉积速度极高,是一般传统镀硬铬工艺的2-3倍。
4. 不含氟化物,不会侵蚀工件的低电流区。
5. 镀层硬度达950-1100HV。
6. 镀层微裂纹数可达400条/釐米,防腐蚀能力提高。
7. 镀层平滑,细緻光亮。
8. CR-25可以镀出较厚的镀层而且均匀性好,还可减少高电流区的过厚沉积(整平效果极佳) 。
9. 不会强侵蚀铅锡阳极,可减少阳极板的耗损。
10. 前处理流程、阳极、镀槽等均与一般传统镀铬工艺一 样。
溶液组成及操作条件:
铬酸 250g/L
硫酸 2.7g/L
温度 50~60℃
阴极电流密度 30~75A/dm2
阳极电流密度 15~35A/dm2
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